Métodos de trabajo de recubrimiento óptico "pulverización al vacío" y "revestimiento iónico"

En el recubrimiento óptico, la pulverización catódica al vacío y el revestimiento iónico son dos tecnologías de deposición física de vapor (PVD) comúnmente utilizadas. Ambas funcionan en un entorno de vacío transfiriendo átomos o moléculas del material objetivo al sustrato para formarse. una película delgada.

**SPuttering al vacío**:

El sputtering al vacío utiliza principalmente haces de iones (generalmente gases inertes, como el argón) para bombardear el material objetivo, lo que hace que los átomos del material objetivo se Cuando se " "pulverizan", estos átomos pasan a través de una cámara de vacío y se depositan sobre un sustrato (como un componente óptico), formando una película delgada. La pulverización catódica al vacío puede preparar películas delgadas con alta densidad, buena adhesión y espesor uniforme, por lo que se ha utilizado ampliamente en óptica, semiconductores y otros campos industriales.

**Recubrimiento de iones**:

El recubrimiento de iones es una tecnología de deposición física de vapor más compleja. En el revestimiento iónico, el material objetivo se calienta hasta que se evapora y luego, bajo la acción de alto voltaje, los átomos o moléculas evaporados se ionizan en iones. Estos iones se aceleran y se dirigen hacia el sustrato, formando una película delgada. El revestimiento iónico puede producir películas delgadas con alta densidad, baja tensión y alta resistencia a la corrosión, y es especialmente adecuado para la preparación de películas ópticas de alto rendimiento, como espejos de alta reflexión y películas antirreflectantes.

Cabe señalar que ambas tecnologías requieren un control y una optimización precisos, incluido el control del entorno de vacío, la energía de la fuente de iones, la temperatura del material objetivo, etc., para lograr las propiedades de película requeridas.