Principio del revestimiento iónico de arco múltiple
El revestimiento iónico es el uso de descarga de gas o separación parcial de sustancias evaporadas en una cámara de vacío. Mientras son bombardeadas por iones de gas o partículas de sustancias evaporadas, las sustancias evaporadas o reactivos se depositan sobre el sustrato. El revestimiento iónico combina orgánicamente el fenómeno de descarga luminosa, la tecnología de plasma y la evaporación al vacío, lo que no solo mejora significativamente la calidad de la película, sino que también amplía el ámbito de aplicación de la película. Sus ventajas son una fuerte adhesión de la película, buena difracción y una amplia gama de materiales de película. D.M. propuso por primera vez el principio del revestimiento iónico. El proceso de trabajo es:
Primero bombee la cámara de vacío hasta un grado de vacío de 4×10 (-3) Pa o superior, luego encienda el nivel alto. -tensión de alimentación, y conectar la fuente de evaporación y el sustrato se establece entre ellos una zona de plasma de baja temperatura de descarga de gas a baja presión. El electrodo de sustrato está conectado a un alto voltaje negativo de 5 kV CC para formar un cátodo de descarga luminosa. Los iones del gas inerte generados en la zona de descarga luminosa entran en la zona oscura del cátodo y son acelerados por el campo eléctrico y bombardean la superficie del sustrato, limpiándola. Luego ingresa al proceso de recubrimiento, calentando para vaporizar el material de recubrimiento, los átomos ingresan a la zona de plasma, chocan con los iones y electrones del gas inerte, y una pequeña cantidad de ellos se ioniza. Los iones ionizados y los iones gaseosos bombardean la superficie del recubrimiento con mayor energía, lo que mejora la calidad de la película.
Sin embargo, el revestimiento de iones multiarco es muy diferente del revestimiento de iones general. El revestimiento iónico de arco múltiple utiliza descarga de arco en lugar de la descarga luminosa del revestimiento iónico tradicional para la deposición. En pocas palabras, el principio del revestimiento de iones de arco múltiple es utilizar el objetivo del cátodo como fuente de evaporación y evaporar el material del objetivo mediante una descarga de arco entre el objetivo y la carcasa del ánodo, formando así plasma en el espacio y depositando el sustrato.