Red de conocimiento del abogados - Cuestiones jurídicas del divorcio - Good Trademark Network: ¿Cuáles son las precauciones y los materiales proporcionados para los cambios de marcas?

Good Trademark Network: ¿Cuáles son las precauciones y los materiales proporcionados para los cambios de marcas?

1. Presentar una solicitud de registro de marca.

2. El formulario de solicitud de registro de marca debe completarse de manera ordenada y el nombre y la dirección del solicitante deben ser precisos.

3. Cada solicitud deberá ir acompañada de 10 marcas en color con dibujos de la marca (colores especificados), 10 dibujos en color y 1 manuscrito en tinta blanca y negra).

4. Si presenta copia de la licencia comercial de la empresa o aporta copia de la licencia comercial firmada por la autoridad emisora, y presenta la solicitud en su propio nombre, deberá aportar el documento de identidad correspondiente.

5. Los documentos de solicitud deben estar en chino y los documentos en idiomas extranjeros deben ir acompañados de traducciones al chino.

6. Al solicitar el registro de un retrato como marca, el solicitante deberá aportar un poder del propietario del retrato, el cual deberá ser autenticado por un notario público.

7. Si un solicitante extranjero tiene prioridad de marca, debe completar el país de solicitud inicial, la fecha de la solicitud inicial y el número de solicitud en el formulario de solicitud, y presentar un certificado de prioridad a la Oficina de Marcas dentro de los 3 días. meses. Si la solicitud no se presenta dentro del plazo, se considerará que no se ha reivindicado la prioridad.

8. Para solicitar una marca colectiva es necesario además aportar el correspondiente certificado de estatuto y calificación de la materia.

上篇: Lujo y dulce esposa 下篇: Modo de ruta de blindaje Guidewire DSAEl método consiste en proyectar el patrón de la máscara sobre la superficie de la muestra a través de una proyección óptica para la transferencia del patrón. En la guía DSA, el haz de electrones está controlado por un alineador de máscara electrónico y el patrón se escribe directamente en la superficie de la muestra. Esta tecnología tiene las ventajas de alta resolución, alta precisión y alta flexibilidad, y puede realizar micro-nanoestructuras muy complejas. La litografía de haz de escritura directa y la litografía de máscara son dos tecnologías de micronanoprocesamiento comúnmente utilizadas.