¿Los chips de cinco nanómetros realmente no necesitan una máquina de fotolitografía?

Canon anunció que mediante la tecnología de nanoimpresión NIL se fabricarán chips de 5 nanómetros en 2025 sin utilizar máquinas de litografía EUV. La tecnología de nanoimpresión es similar a la tecnología de impresión. Los chips se crean disparando un patrón de circuito sobre una "impresión" especial y luego estampando la "impresión" en una oblea de silicio. La dificultad de la tecnología de nanoimpresión NIL es cómo grabar patrones de circuitos finos en la "huella".

Canon actualmente tiene cierta fortaleza técnica y ha cooperado con "Iron Man" para aplicar la tecnología de nanoimpresión NIL a la fabricación de algunos chips de memoria. Se dice que ha habido un gran avance recientemente, por lo que Canon confía en poder fabricar chips de 5 nm en 2025 sin necesidad de máquinas de litografía EUV.

Progreso de la tecnología de nanoimpresión de China

También hay algunas empresas nacionales que estudian la tecnología de nanoimpresión NIL, pero en general, la tecnología nacional está relativamente atrasada. Canon tiene 913 patentes en tecnología de nanoimpresión NIL, lo que representa casi el 100% de todas las patentes, lo que demuestra su ventaja absoluta en este campo. Aunque el número de patentes en China no es tan alto como el de Canon, algunas empresas han logrado algunos resultados.

Por ejemplo, Nintendo Micro-Nano tiene tecnologías similares en los campos de DOE, guías de ondas ópticas difractivas AR/VR, polarización de rejilla de alambre, súper lentes, biochips, LED, conjuntos de microlentes y otros campos. Se dice que Nintendo Micro-Nano ha logrado una nanoimpresión de alta precisión en un área de sustrato de 150/300 mm, con una precisión mejor que los 10 nm. Si esta noticia es cierta, se espera que la tecnología nacional de nanoimpresión NIL alcance los 5 nm, reduciendo así la dependencia de las máquinas de fotolitografía.