¿Cuáles son las ventajas del grabado anisotrópico en comparación con el grabado en seco en la preparación de semiconductores?

El grabado anisotrópico se utiliza principalmente para grabar materiales con diferentes velocidades en varias direcciones. Por ejemplo, si se utiliza KOH para grabar silicio en las direcciones 100 y 110, la velocidad es completamente diferente. 100 será mucho más rápido.

Seco. grabado Principalmente ioniza algunos gases en estados ionizados y luego usa aceleración electromagnética para golpear el objetivo y reaccionar con el material objetivo ~

En realidad, creo que las dos cosas que mencionaste no son comparables horizontalmente. .

Según si la corrosión es direccional, el grabado se puede dividir en anisotrópico e isotrópico.

Según los materiales utilizados para el grabado, se puede dividir en métodos húmedos (como el KOH mencionado anteriormente) y métodos secos (típicamente RIE, grabado reactivo).

Si se ve obligado a comparar, el grabado en seco es mejor que el grabado anisotrópico, porque el grabado en seco puede proporcionar muy buenas paredes laterales ~ es decir, la pared interior y el fondo del orificio grabado son casi verticales ~ pero el efecto específico depende del método y material del grabado en seco y del objetivo~