I+D realizado por el 45º Instituto de Investigación de China Electronics Technology Group Corporation
En 1978, se desarrolló con éxito el primer generador de gráficos en China.
En 1984, desarrolló con éxito la primera máquina de litografía paso a paso de China y ganó el primer premio por el progreso científico y tecnológico en la industria electrónica.
En 1993, la primera máquina de litografía de doble cara de China se desarrolló con éxito y ganó el Premio Nacional de Nuevos Productos y el tercer premio del Premio al Progreso de Ciencia y Tecnología de la Industria Electrónica.
En 1997, desarrolló con éxito el primer banco de pruebas de sondas de temperatura ultrabaja en China y ganó el segundo premio del Premio al Progreso de Ciencia y Tecnología de la Industria Electrónica.
En 1997, se desarrolló con éxito el primer banco de pruebas de sondas totalmente automático en China.
En 2005, el proyecto nacional clave de investigación científica "Máquina de litografía de doble cara SB-601" pasó la finalización y aceptación del diseño. Este equipo es la primera máquina práctica de litografía de doble cara de 6 pulgadas en China y se encuentra en el nivel líder en el país.
En 2005, poseía tres patentes: tecnología de dispositivo de formación de galvanoplastia de hoja interna de diamante, dispositivo de accionamiento de motor sin escobillas especial para equipos de lavado giratorio y cabezal de impresión de tinta, y ganó el Premio de Plata en la 15ª Exposición Nacional de Invenciones.
En 2005, la máquina adelgazadora de obleas de 8 pulgadas obtuvo la certificación nacional. La resolución de alimentación del equipo puede alcanzar 0,1 μm, lo cual es un avance en el mundo. Sobre esta base, tomamos la iniciativa en el adelgazamiento de obleas de 60 μm en China.